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半導體恒溫恒濕箱的冷卻循環(huán)水套的清理方法

更新日期: 2022-12-19
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冷卻循環(huán)水套內(nèi)有結垢時,導致制冷標準惡變,影響半導體恒溫恒濕箱導熱特性,將半導體恒溫恒濕箱的排氣管溫度上升而造成很多后遺癥,應定期維護與消除冷卻循環(huán)水套內(nèi)的污垢。水垢的形成主要是因為在常用的冷卻循環(huán)水中帶有機械設備殘渣(如細沙)等,在水冷器中產(chǎn)生沉積,水體太硬(如石灰粉以及它有機化學殘渣)也會沉積成污垢層,危害制冷實際效果。

在水冷器中積有沉垢時,可選用以下方式開展消除。如選用機械設備消除(用專用工具鏟刮等),有艱難時,可以用5~25%的鹽酸溶液開展酸洗鈍化:先將水冷器內(nèi)的冷卻循環(huán)水釋放后,將鹽酸溶液灌進,依據(jù)污垢的強度與該水溶液在水冷器中滯留12~24小時,當水冷器中有鹽酸溶液存有時,應在水冷器上留一個管口,便于排出來氣體。但務必留意,禁止用火貼近該孔,由于硫酸用于金屬材料上面溶解出氡氣,該氣與火觸碰可能發(fā)生爆炸事故。污垢融解以后,運用水清理水冷器,便于將融解后的污垢和硫酸排出來,或用小蘇打水溶液再度清理掉可能殘余的硫酸。如果有不清楚的地方最好是聯(lián)系廠家,不要自行處理。

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